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  • 非晶性全氟溶液PT35
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  • 非晶性全氟溶液PT35

    PT35(对标科慕AF1600)         

    无定形全氟聚合物,可溶于专用全氟溶剂,旋涂成膜,

    ✅核心性能


    1. 光学性能

    紫外-可见光波段高透光,低折射率;适合光刻掩膜护膜、光学涂层,无结晶,不会出现晶界散射,成膜均匀透明。


    2. 化学稳定性

    极强化学惰性,耐强酸、强碱、大部分有机溶剂、光刻胶显影液、蚀刻液;几乎不被绝大多数化学品溶胀腐蚀。


    3. 介电特性

    低介电常数、低介电损耗,高频绝缘优异,适合半导体、集成电路、固态电池界面涂层。


    4. 表面特性

    疏水疏油,低表面能、不粘,摩擦系数低;膜层抗污染,不易吸附颗粒。


    5. 机械与柔性

    成膜后具备一定韧性与弹性,弯折不易碎裂、掉粉(固态电池电极粘接),膜层附着力可控。


    6. 热性能

    耐热稳定,玻璃化转变温度匹配AF1600区间;热分解温度高,高温下低析出、低挥发。


    7. 加工特性

    可配制成溶液体系,旋涂、浸涂、喷涂均可;溶液可直接混配粉体(三元正极、VGCF导电剂)做电极涂布。


    📌适用场景


    • 光掩膜护膜、半导体光刻工艺


    • 固态电池正极界面涂层(粉体电极粘接,铝箔涂覆)


    • 光学低折射率涂层、芯片绝缘保护层


    ⚠️和AF1600对比要点


    • PT610为国产替代牌号,成膜柔性更好一点


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商品描述

PT35(对标科慕AF1600)         

无定形全氟聚合物,可溶于专用全氟溶剂,旋涂成膜,

✅核心性能


1. 光学性能

紫外-可见光波段高透光,低折射率;适合光刻掩膜护膜、光学涂层,无结晶,不会出现晶界散射,成膜均匀透明。


2. 化学稳定性

极强化学惰性,耐强酸、强碱、大部分有机溶剂、光刻胶显影液、蚀刻液;几乎不被绝大多数化学品溶胀腐蚀。


3. 介电特性

低介电常数、低介电损耗,高频绝缘优异,适合半导体、集成电路、固态电池界面涂层。


4. 表面特性

疏水疏油,低表面能、不粘,摩擦系数低;膜层抗污染,不易吸附颗粒。


5. 机械与柔性

成膜后具备一定韧性与弹性,弯折不易碎裂、掉粉(固态电池电极粘接),膜层附着力可控。


6. 热性能

耐热稳定,玻璃化转变温度匹配AF1600区间;热分解温度高,高温下低析出、低挥发。


7. 加工特性

可配制成溶液体系,旋涂、浸涂、喷涂均可;溶液可直接混配粉体(三元正极、VGCF导电剂)做电极涂布。


📌适用场景


• 光掩膜护膜、半导体光刻工艺


• 固态电池正极界面涂层(粉体电极粘接,铝箔涂覆)


• 光学低折射率涂层、芯片绝缘保护层


⚠️和AF1600对比要点


• PT610为国产替代牌号,成膜柔性更好一点



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