全氟树脂 PT35 在 pellicle 光罩掩膜板防尘膜方面应用
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作者:pc
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发布时间: 2026-09-11
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Pufluo™ PT35 非晶全氟树脂可制备超薄光罩 Pellicle 膜。
PT35 具备优异深紫外透光率、低析出、耐化学性，高能紫外辐照下尺寸稳定性好。
超薄 PT35 Pellicle 膜覆盖在掩膜板表面作为保护层，阻挡颗粒污染物；避免光刻曝光时灰尘成像到晶圆上，保护光罩不受损伤。
相比传统 pellicle 材料，PT35 折射率低、成膜性好，深紫外波段吸收极低，适用于先进半导体光刻掩膜防护。
Pufluo™ PT35 非晶全氟树脂 Pellicle 膜面向DUV 深紫外光刻，核心工作波长：193 nm（ArF）、248 nm（KrF），同时兼容 I-line 365 nm。
备注：PT35 有机聚合物 Pellicle不适用 EUV（13.5 nm）；EUV Pellicle 采用无机薄膜，不使用有机氟聚合物。
波长性能说明
PT35 在深紫外波段透光率极高、光吸收低，激光辐照稳定性优异：
193 nm（ArF 浸没式 / 干式光刻）：主力目标波长；超薄 PT35 Pellicle 薄膜透光率＞99%，光致暗变小，用于先进节点 ArF 光刻机掩膜防护。
248 nm（KrF 光刻）：透光率＞99%，在 KrF 准分子激光长期照射下使用寿命长。
365 nm（I-line）：高透明，可用于成熟节点光刻。
